柔軟性のSemiconductiveグラファイト部品オイル キャビティ無し

半導体のグラファイト部品

• 働き主義

イオンimplanterは適用の最大数を用いる高圧小さい加速装置の1つである。それはイオン源からの必須イオンを得、加速の後で数百のキロボルトのエネルギーのイオン ビームを得る。それは半導体材料、大規模な集積回路および装置のイオン・インプランテーションのために使用される。それはまた金属材料の表面の修正そして製造業のために使用される。フィルム等。

• プロセス フロー

•クリーニング:10分の超音波清浄。純粋な水、抵抗≥2MΩ cmを使用しなさい。
•乾燥:オイル キャビティ無し、2時間、温度≥200℃
•パッキング:、袋包む、素手、半導体の等級のイソプロピル・アルコールのワイプ、純粋な等級用具、別のHDPEおよび泡フィルム無しプラスチック波形をヒート シールする真空-板基盤
•ラベル:内部および外装の半導体等級のほこりのないラベル ペーパーのためのクリーン ルームの印刷のラベル、二重層のラベル

• 適用

イオンはグラファイト部品をである半導体の塗布の1つ植え付けた。きめの細かく、高密度グラファイトは非常に粗い働く条件の下で強い耐食性を（イオン ビームの衝突か血しょうビームのような）表わし、盾として使用することができる。Eaton、Axcelis、Quatum、Varian、Nissin、AMAT、逃亡および他の装置に類似した。

半導体工業では、高純度のグラファイトは暖房装置、絶縁材カバー、電極、等として主にある。これらの部品のための高純度のグラファイトの使用はまた高純度のグラファイトの高温抵抗をフルに活用する。高純度のグラファイトの利点は、耐食性のような、酸化抵抗より摩耗減る省エネ長の仕事の部分の生命を、作る半導体工業におよび電気および熱伝導性、適用された。私達の会社は正確に標準的な部品およびカスタマイズされた指定を提供するイオン・インプランテーションのためのグラファイトの消耗品を製造するのにドイツの半導体の等級のグラファイト材料を使用する。
高純度のグラファイトは均一および粉体の特徴に従って低い原子番号材料として使用することができる。それにイオンへの強い衝突の抵抗があり、血しょう、半導体への強い耐食性、高い純度、金属イオンは、汚染保護カバーとして、イオン・インプランテーション装置で露出された金属部分により高い損失を引き起こし、従って対応するグラファイト部品を使用しない。血しょうcvd血しょうvcdのsusceptor、電極の部屋、ノズル、ライニング、放出させる電極、movcdのsusceptor、等のための部品。

• 利点

良質、カスタマイズされた順序、速い配達